ï»?!DOCTYPE html> ¼„›_Œ–¼‹…超声—电化学抛光仿真与研抛实验研½I?- ‹z›é˜³ä¼ é¡ºæœºæ¢°è®‘Ö¤‡æœ‰é™å…¬å¸
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                ¼„›_Œ–¼‹…超声—电化学抛光仿真与研抛实验研½I?/h1>

                发表于:2023-07-11 来源åQ?a href='http://www.852879.com/news/129.html'>http://www.852879.com/news/129.html

                    æ‘˜è¦:¼„›_Œ–¼‹…ä¼ ¾lŸçš„减薄抛光æ–ÒŽ³•è¡¨é¢è´¨é‡è¾ƒå·®,去除效率很低。超声æ‡L—电化学抛光是结合了电化学抛光与­‘…声波辅助抛光的复合抛光技æœ? é€šè¿‡å®žéªŒ‹¹‹è¯•å…ähœ‰æ•ˆçŽ‡é«˜ï¼ŒæŠ›å…‰è¡¨é¢è´¨é‡å¥½çš„特点ã€?/span>


                    å“ˆå°”滨工业大å­?nbsp;| å­™ä¸™é•?nbsp;


                    ¼„›_Œ–¼‹…是½W¬ä¸‰ä»£åŠå¯ég½“材料,å…ähœ‰ä¼˜è‰¯çš„电性能与物理化学性能。同æ—?¼„›_Œ–¼‹…也是一¿Uè¶…¼‹¬ææ–?å…ähœ‰è„†æ€§å¤§ã€å¯¹¾~ºé™·æ•æ„Ÿã€æŠ—冲击性差、化学惰性极强的特点,因此加工隑ֺ¦å¾ˆå¤§ã€‚ä¼ ¾lŸçš„¼‚¨å‰Šæ–ÒŽ³•èŽ·å¾—的表面质量较å·?现行的几¿Uç²¾å¯†æŠ›å…‰æ–¹æ³•åˆ™åŽ»é™¤çŽ‡å¾ˆä½Žã€‚超声æ‡L—电化学抛光是结合了电化学抛光与­‘…声波辅助抛光的复合抛光技æœ?在模具加工领域已取得显著的研½I¶æˆæž?但目前尚未有ž®†è¯¥æŠ€æœ¯åº”用于¼„›_Œ–¼‹…加工的研究。通过对碳化硅­‘…声波—电化学抛光˜q‡ç¨‹çš„流场、电åœÞZ»¿çœŸåˆ†æžä¸Žå®žéªŒç ”究,论文探烦了该æ–ÒŽ³•å®žçŽ°¼„›_Œ–¼‹…高效去除的可行æ€?获得了不同工艺参数对研抛效果的媄响规å¾?对碳化硅高效­‘…精密加工具有重要的理论和指导意义。首先进行流åœÞZ»¿çœŸåˆ†æž?针对不同的研抛变é‡?利用Fluent软äšg建立了三¿Uä¸åŒçš„仿真模型;分别研究­‘…声振动、流体膜厚度与抛光垫打孔å¯ÒŽµåœºçš„速度、压力与气相分布½{‰ç‰¹å¾çš„影响规律。结果显½C?­‘…声振动会ä‹É试äšg表面的流体剧烈变åŒ?产生极强的剪切流与高压作ç”?‹¹ä½“膜厚度越ž®?研抛表面承受的压力越å¤?剪切‹¹è¶Šå¼?加工效果­‘Šå¥½;抛光垫上的小孔会é˜È¢è¯•äšg表面的流体流åŠ?使流场的压力出现台阶变化,有利用超声空化的产生。然后进行电场分æž?利用Ansoft Maxwell软äšg,分别研究研磨液电导率、流体膜厚度与试件材料对电场分布的媄响规律。结果表æ˜?电压通过试äšg时åƈ不击½I¿è¯•ä»¶å†…éƒ?而是ç”׃¾§é¢å‘下传å¯?随着研磨液电导率升高,试äšg表面的电‹¹å¯†åº¦çº¿æ€§å¢žå¤§ä¸”效果显著;‹¹ä½“膜厚度的变化对试件表面的电场分布影响很小,在一定范围内,‹¹ä½“膜厚度越ž®?表面甉|µ­‘Šé«˜;在相同的仿真模型ä¸?¼„›_Œ–¼‹…试件在研抛表面的电‹¹å¯†åº¦æ¯”铁、铜½{‰è‰¯å¯ég½“降低了约20%。最å?自主研制­‘…声波—电化学研抛实验æœ?实现­‘…声辅助、电压加载与实时数据采集。通过¾pÕdˆ—研磨与抛光实éª?获得了超声辅助、外加电压与研磨液组分对¼„›_Œ–¼‹…摩擦磨损性能的媄响规律。实验研½I¶è¡¨æ˜?试äšg对研抛盘的摩擦系æ•îC¸»è¦å–决于研磨液的成分,相同条äšg下金刚石悬æÕQ液可使SiC试äšg去除最å¿?向试件施加正电压与超声辅助都能提高材料去除率,但不能改变摩擦系æ•?­‘…声振动对研抛过½E‹çš„影响大于电场的作ç”?通过­‘…声振动与外加电场的辅助,åœ?0N压力ä¸?以金刚石悬æÕQ液äؓ研抛æ¶?获得SiC试äšg的最高研¼‚¨åŽ»é™¤çŽ‡ä¸?5.7mg/h,åœ?0N压力ä¸?SiC试äšg的最高抛光去除率ä¸?.21 mg/hã€?/span>


                机 æž?哈尔滨工业大å­?/span>
                领 åŸ?金属学及金属工艺åQ›æ— ¾U¿ç”µç”µå­å­¦ï¼›
                关键è¯?¼„›_Œ–¼‹…ï¼›‹¹åœºä»¿çœŸåQ›ç”µåœÞZ»¿çœŸï¼›å®žéªŒæœø™®¾è®¡ï¼›æ‘©æ“¦¼‚¨æŸç‰ÒŽ€§ã€?/span>

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